produk

Substrat LiAlO2

Deskripsi Singkat:

1. Konstanta dielektrik rendah

2. Kehilangan gelombang mikro yang rendah

3. Film tipis superkonduktor suhu tinggi


Rincian produk

Label Produk

Keterangan

LiAlO2 adalah substrat kristal film yang sangat baik.

Properti

Struktur kristal

M4

Konstanta sel satuan

a=5,17 A c=6,26 A

Titik leleh(℃)

1900

Massa jenis(g/cm3

2.62

Kekerasan (Mho)

7.5

Pemolesan

Tunggal atau ganda atau tanpa

Orientasi Kristal

<100> <001>

Definisi Substrat LiAlO2

Substrat LiAlO2 mengacu pada substrat yang terbuat dari litium aluminium oksida (LiAlO2).LiAlO2 merupakan senyawa kristal yang termasuk dalam kelompok ruang R3m dan memiliki struktur kristal segitiga.

Substrat LiAlO2 telah digunakan dalam berbagai aplikasi, termasuk pertumbuhan film tipis, lapisan epitaksi, dan struktur heterostruktur untuk perangkat elektronik, optoelektronik, dan fotonik.Karena sifat fisik dan kimianya yang sangat baik, ia sangat cocok untuk pengembangan perangkat semikonduktor celah pita lebar.

Salah satu aplikasi utama substrat LiAlO2 adalah dalam bidang perangkat berbasis Gallium Nitrida (GaN) seperti High Electron Mobility Transistors (HEMTs) dan Light Emitting Diodes (LEDs).Ketidakcocokan kisi antara LiAlO2 dan GaN relatif kecil, menjadikannya substrat yang cocok untuk pertumbuhan epitaksi film tipis GaN.Substrat LiAlO2 menyediakan templat berkualitas tinggi untuk deposisi GaN, sehingga meningkatkan kinerja dan keandalan perangkat.

Substrat LiAlO2 juga digunakan di bidang lain seperti pertumbuhan bahan feroelektrik untuk perangkat memori, pengembangan perangkat piezoelektrik, dan pembuatan baterai solid-state.Sifat uniknya, seperti konduktivitas termal yang tinggi, stabilitas mekanik yang baik, dan konstanta dielektrik yang rendah, memberikan keuntungan dalam aplikasi ini.

Singkatnya, substrat LiAlO2 mengacu pada substrat yang terbuat dari litium aluminium oksida.Substrat LiAlO2 digunakan dalam berbagai aplikasi, terutama untuk pertumbuhan perangkat berbasis GaN, dan pengembangan perangkat elektronik, optoelektronik, dan fotonik lainnya.Mereka memiliki sifat fisik dan kimia yang diinginkan yang membuatnya cocok untuk pengendapan film tipis dan struktur heterostruktur serta meningkatkan kinerja perangkat.


  • Sebelumnya:
  • Berikutnya:

  • Tulis pesan Anda di sini dan kirimkan kepada kami